Oxidschicht Modellierung
Elektrochemischer Oxidschichtwachstum
In diesem Forschungsprojekt befassen wir uns mit der Modellierung von Oxidschichten auf Metallelektroden. Oxidschichten spielen unter anderem eine große Rolle im Korrosionsschutz oder in der Halbleiterindustrie. Die Modellierung von Oxidschichten vertieft das Verständnis der ablaufenden physikalischen und chemischen Prozesse während des Schichtwachstums und kann dabei helfen die Prozesse an den Schnittstellen zwischen Elektrode und Halbleiter oder Halbleiter und Umgebung besser zu verstehen und so zum Beispiel Korrosionsschäden zu verhindern.
Kontakt
Dr.-Ing. Ingmar Bösing
UFT 2210
0421 218 63388
Relevante Literatur
Ingmar Bösing. "Modeling electrochemical oxide film growth—passive and transpassive behavior of iron electrodes in halide-free solution." npj Materials Degradation 7.1 (2023): 53.
Ingmar Bösing, Jorg Thöming, and Fabio La Mantia. "Modeling of electrochemical oxide film growth–impact of band-to-band tunneling." Electrochimica Acta 406 (2022): 139848.
Ingmar Bösing, Fabio La Mantia, and Jorg Thöming. "Modeling of electrochemical oxide film growth - a PDM refinement." Electrochimica Acta 406 (2022): 139847.
Ingmar Bösing, Georg Marquardt, and Jorg Thöming. "Effect of heat treatment of martensitic stainless steel on passive layer growth kinetics studied by electrochemical impedance spectroscopy in conjunction with the point defect model." Corrosion and materials degradation 1.1 (2020): 77-91.



