Allgemeine Informationen

• Untersuchungsgebiete

  Electron Microscopy
• Techniken

  Scanning Electron Microscopy
  
• Hersteller

  Zeiss
• Herstellungsjahr

  2013
• Gemessene Größe

  layer thickness; surface morphology
• Hauptanwendung

  Thickness measurement, material deposition, ion beam etching, e-beam lithography

Spezifikationen des Geräts

Kontaktperson

• Anwendungswissenschaftler

  Reiner Klattenhoff
  , BIAS
  FZB HB 1080
  Telefonnummer +49-421-218-58073
  klattenhoffprotect me ?!biasprotect me ?!.de
• Führender Anwendungswissenschaftler

  Bergmann, Ralf
  

Gerätestandort

• Gruppe

  OMOS
• Gebäude

  NW1
• Raum

  O0150