Instrument Database
Surface Analytics
Photonic Professional 3D Laser Lithography System
Allgemeine Informationen
- Untersuchungsgebiete
- Techniken3D Laser Lithography
- HerstellerNanoscribe
- Herstellungsjahr2010
- HauptanwendungFabrication of 3D polymer-based structures like waveguides, DOE's, or photonic crystals.
Spezifikationen des Geräts
- Technische Aspkete
Lateral feature size: < 200 nm (lateral linewidth in IP-L 780)
Lateral resolution: < 500 nm
Axial resolution: 800 nm
Piezo range: 300 µm x 300 µm x 300 µm
Laser center wavelength: 780 nm
- Weitere Untersuchungsmöglichkeiten3D laser lithography, direct laser writing, two-photon polymerization, polymers, DOE, material manipulation, structure fabrication, surface modification, 3D design
Kontaktperson
- AnwendungswissenschaftlerClaas Falldorf
Coherent Optics and Nanophotonics, BIAS
Telefonnummer
falldorfprotect me ?!biasprotect me ?!.de - Führender AnwendungswissenschaftlerBergmann, Ralf
Gerätestandort
- GruppeMicro- and Nano-Optics
- GebäudeLION
- Institut (Außeruniversitär)BIAS